693.932 PEOPLE
| People | Locations | Statistics |
|---|---|---|
| Naji, M. |
| |
| Motta, Antonella |
| |
| Aletan, Dirar |
| |
| Mohamed, Tarek |
| |
| Ertürk, Emre |
| |
| Taccardi, Nicola |
| |
| Kononenko, Denys |
| |
| Petrov, R. H. | Madrid |
|
| Alshaaer, Mazen | Brussels |
|
| Bih, L. |
| |
| Casati, R. |
| |
| Muller, Hermance |
| |
| Kočí, Jan | Prague |
|
| Šuljagić, Marija |
| |
| Kalteremidou, Kalliopi-Artemi | Brussels |
|
| Azam, Siraj |
| |
| Ospanova, Alyiya |
| |
| Blanpain, Bart |
| |
| Ali, M. A. |
| |
| Popa, V. |
| |
| Rančić, M. |
| |
| Ollier, Nadège |
| |
| Azevedo, Nuno Monteiro |
| |
| Landes, Michael |
| |
| Rignanese, Gian-Marco |
|
Kim, Soo-Hyun
in Cooperation with on an Cooperation-Score of 37%
Topics
Publications (2/2 displayed)
- 2023Preparation of wafer-scale highly conformalamorphous hafnium dioxide thin films by atomic layer deposition using a thermally stable boratabenzene ligand-containing hafnium precursor ; Příprava vysoce konformních tenkých filmů amorfního oxidu hafničitého pomocí depozice atomární vrstvev za použití tepelně stabilního prekurzoru hafnia obsahujícího boratabenzenový ligand pokrývajících velké plochycitations
- 2021Low-temperature growth of crystalline Tin(II) monosulfide thin films by atomic layer deposition using a liquid divalent tin precursor ; Nízkoteplotní růst tenkých vrstev krystalického monosulfidu cínatého pomocí depozice atomových vrstev s využitím kapalného prekurzoru dvojmocného cínucitations
Places of action
| Organizations | Location | People |
|---|